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cac2制取c2h2,cac2形成过程电子式 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融(róng)界4月24日消息,国家知识(shí)产权局局长申长雨(yǔ)在新闻发布会上表(biǎo)示,将统筹(chóu)推(tuī)进各类知识(shí)产权(quán)法律法规和制(zhì)度规则的制(zhì)修订(dìng)工作。其中,修改(gǎi)完善(shàn)集成电路布图设计(jì)保护条例,适应大规(guī)模集成电路发(fā)展需(xū)要,助(zhù)力芯片(piàn)产业做大做强,服务数字(zì)经济(jì)更好发展。

  加强大数据、人工智能、基因(yīn)技术等(děng)新(xīn)领域新业态知识产(chǎn)权规则研究,助力相关(guān)领(lǐng)域(yù)创新(xīn)发展。同(tóng)时,积极参与知识产(chǎn)权国(guó)际(jì)规则制定,更好cac2制取c2h2,cac2形成过程电子式对接高标准国际(jì)经贸规则,助力高水平对外开放。

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