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回复好和好的的区别在哪里,好,好的区别 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日(rì)消息,国家知识产权局局长申(shēn)长(zhǎng)雨(yǔ)在新(xīn)闻(回复好和好的的区别在哪里,好,好的区别wén)发布会(huì)上表示(shì),将统(tǒng)筹推(tuī)进各(gè)类知识(shí)产权法律法(fǎ)规和(hé)制度规则的制修订工作。其中,修改完善集成电路布图设计保(bǎo)护条(tiáo)例,适应大规模集(jí)成(chéng)电(diàn)路发(fā)展需要,助(zhù)力(lì)芯片(piàn)产(chǎn)业做大做强,服务数(shù)字经济(jì)更好(hǎo)发展。

  加强(qiáng)大数据、人工智能、基因技术等新领域新(xīn)业(yè)态知识产权规则(zé)研究,助力相关领域(yù)创新发展。同时,积极参与知识产权国(guó)际(jì)规则制定(dìng),更(gèng)好对接高标准国际(jì)经贸规则,助力高水平对(duì)外开放。

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