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　　美光公(gōng)司在华销售的产品未通过网络安全审查

　　据网(wǎng)信(xìn)办消息，日前，网络(luò)安全审查办公室依法对美(měi)光公(gōng)司在华(huá)销售(shòu)产品(pǐn)进行了网络安全审查。

　　审查(chá)发现，美光公(gōng)司(sī)产品存在较(jiào)严重网(wǎng)络安全问(wèn)题隐患，对我国关(guān)键信息基础设(shè)施供应链(liàn)造成重大(dà)安全(quán)风(fēng)险(xiǎn)，影响我国国(guó)家安全。为此，网络安全审查办(bàn)公室依法作出(chū)不予通过网络安(ān)全审查的结论。按照《网络安全法》等法律法规，我国(guó)内关键信息基础设施(shī)的运(yùn)营(yíng)者应停止采购美光公司产(chǎn)品。

　　此次对美光公(gōng)司产品(pǐn)进(jìn)行网络安全审查，目的(de)是防(fáng)范产品网络安全问题(tí)危害国家关键信(xìn)息基础设(shè)施安(ān)全，是维护(hù)国家安(ān)全的必要措施。中国坚(jiān)定推进高水平对外开放，只要遵守中国法律法规要求，欢迎(yíng)各国企(qǐ)业(yè)、各类平台产品服(fú)务进(jìn)入中(zhōng)国市(shì)场。

　　3月31日，中国网信网发(fā)文(wén)称，为保障关键信息(xī)基础(chǔ)设(shè)施供应链安全，防范产品问(wèn)题隐患造成(chéng)公安协警工资多少，公安协警怎么样网络安全风险，维护国家安全(quán)，依据《中华人民共和国国家(jiā)安全(quán)法》《中华人民共和国(guó)网络(luò)安全法》，网络安全审查办公室(shì)按(àn)照《网(wǎng)络安(ān)全(quán)审查办法(fǎ)》，对美光公司（Micron）在华销售的产品实施网络安全审(shěn)查。

　　美(měi)光是美国(guó)的存储芯(xīn)片行(x公安协警工资多少，公安协警怎么样íng)业龙头，也是全球存储(chǔ)芯片(piàn)巨头之一，2022年收入来自(zì)中国市场收入从(cóng)此前(qián)高(gāo)峰57％降至2022年(nián)约(yuē)11％。根据市场(chǎng)咨(zī)询机构 Omdia（IHS Markit）统计(jì)，2021 年(nián)三(sān)星电子、 铠侠、西部(bù)数据(jù)、SK 海(hǎi)力士(shì)、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额(é)约为 96.76％，三星(xīng)电子、 SK 海力士、美(měi)光(guāng)在全(quán)球 DRAM （内存(cún)）市场份额约(yuē)为 94.35％。

　　A股上市公(gōng)司中，江波龙、佰维(wéi)存储等公司披露过美(měi)光等国际存储厂商为公司供(gōng)应商(shāng)。

　　美光在江波龙采购占比已经(jīng)显著下降(jiàng)，至少已经不是主要(yào)大供(gōng)应商。

　　公(gōng)告(gào)显示， 2021年美(měi)光位列江(jiāng)波(bō)龙第一大(dà)存(cún)储(chǔ)晶(jīng)圆供应商，采(cǎi)购(gòu)约31亿(yì)元，占比33.52％；2022年，江(jiāng)波龙第一大、第(dì)二(èr)大和第三(sān)大(dà)供应商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存(cún)储产(chǎn)业链上(shàng)下(xià)游建立(lì)国内(nèi)外(wài)广泛合作。2022年年报(bào)显示，江波龙(lóng)与三星、美(měi)光、西部数(shù)据(jù)等主要(yào)存储晶圆原(yuán)厂签署了长期合(hé)约，确保(bǎo)存储(chǔ)晶(jīng)圆供应的稳定性，巩固公司在下游(yóu)市场的(de)供应优势，公司(sī)也与国内国产存储晶圆原厂(chǎng)武汉长江存储、合肥长鑫保持良好的(de)合(hé)作(zuò)。

　　有券商此前就分析(xī)，如果美光在(zài)中国区销售受到(dào)限制，或将导致下(xià)游客(kè)户转而采购(gòu)国外三星、 SK海力士，国内(nèi)长(zhǎng)江存储、长鑫存储(chǔ)等(děng)竞对产品

　　分析称，长存、长(zhǎng)鑫的(de)上(shàng)游设备(bèi)厂或(huò)从(cóng)中受益。存(cún)储(chǔ)器的生产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另(lìng)外(wài)NAND Flash现在已经(jīng)进入3D NAND时代，2 维(wéi)到3维的结构转变(biàn)使刻蚀(shí)和(hé)薄膜成为最关键、最大(dà)量的(de)加工设备。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄(báo)膜沉积工艺步骤，同时(shí)刻蚀(shí)目前前沿要刻到(dào) 60：1的深孔(kǒng)，未来(lái)可能会(huì)更深的孔(kǒng)或(huò)者沟槽，催生更多设备需求。据东京电子披露，薄膜沉(chén)积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本(běn)开支合(hé)计为75％。自长江(jiāng)存储被加入美国限(xiàn)制名单(dān)，设备国(guó)产化进程加速，看好拓(tuò)荆科技（薄膜沉积）等相(xiāng)关公司份(fèn)额提(tí)升，以及存储业务占比(bǐ)较高的(de)华海清科（CMP）、盛美上海（清(qīng)洗(xǐ)）等(děng)收入(rù)增长。

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