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红楼梦多少字

红楼梦多少字 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则突发消(xiāo)息。

  美光公(gōng)司(sī)在(zài)华销售的产品未(wèi)通过(guò)网络安(ān)全审查

  据网信办消息,日前,网络(luò)安全审查办公室(shì)依法对(duì)美光(guāng)公司在华销售(shòu)产品进行了网络(luò)安(ān)全审查。

  审查发(fā)现(xiàn),美光公司产品存在较严重(zhòng)网络(luò)安全(quán)问题隐患,对我国关键信息基础设施供(gōng)应链造成重大安全风险,影(yǐng)响(xiǎng)我国国(guó)家安全。为(wèi)此,网络安全审查(chá)办公室依法作出不予通过网(wǎng)络(luò)安全审查的结论(lùn)。按照《网(wǎng)络安全(quán)法(fǎ)》等法律法规,我国内关键信息基础设施的运营者应停止采购美(měi)光公(gōng)司产品(pǐn)。

  此(cǐ)次对美光公司(sī)产品进行网络安全审查,目的是防范产品网络安全(quán)问题危害国(guó)家(jiā)关键(jiàn)信(xìn)息基础设施安全,是维护国家安全的必要措施。中国坚定推进高水(shuǐ)平对外开放,只(zhǐ)要遵守(shǒu)中国法律法规(guī)要求(qiú),欢(huān)迎各(gè)国企业(yè)、各类(lèi)平台(tái)产品服务进入(rù)中国市场。

  半(bàn)导体突发!中(zhōng)国出手:停止(zhǐ)采购(gòu)!

  3月31日,中国网信(xìn)网(wǎng)发文称(chēng),为(wèi)保(bǎo)障关键(jiàn)信息(xī)基础设(shè)施供应链安全(quán),防范产品问题隐(yǐn)患造成网络安全风险,维护国(guó)家安全,依(yī)据(jù)《中华人(rén)民共和国国家安全法》《中华人民(mín)共和国网络安全法》,网(wǎng)络安(ān)全审查办公室按照(zhào)《网络安(ān)全(quán)审查(chá)办法》,对美光公司(Micron)在华销售的产品实施网络(luò)安全审(shěn)查。

  半导体(tǐ)突发!中国(guó)出(chū)手(shǒu):停止采购!

  美光是美国的存(cún)储芯片行业(yè)龙头,也是全球存储芯片巨头(tóu)之一,2022年收入(rù)来自中国(guó)市场收(shōu)入从此前高峰(fēng)57%降至20红楼梦多少字22年约11%。根据市场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部数据、SK 海(hǎi)力士、美光(guāng)、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪(shǎn)存(cún))市场份额约为 96.76%,三星(xīng)电子、 SK 海(hǎi)力士、美(měi)光在全球(qiú) DRAM (内(nèi)存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江波龙、佰维存(cún)储(chǔ)等公司披露过美光等国际(jì)存(cún)储厂商为(wèi)公司供应(yīng)商(shāng)。

  美光在江波龙采购占(zhàn)比已(yǐ)经(jīng)显(xiǎn)著下降,至少已经不(bù)是(shì)主要大供(gōng)应商。

  公告显(xiǎn)示, 2021年美光位列江波龙(lóng)第一大存储晶圆供应商,采(cǎi)购约31亿元,占(zhàn)比33.52%;2022年,江(jiāng)波龙第一大、第二大和第(dì)三大(dà)供应商采购金(jīn)额占(zhàn)比(bǐ)分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波红楼梦多少字龙已经在存储产(chǎn)业(yè)链上下游建立国内(nèi)外广泛合作。2022年(nián)年报显示,江波龙与三星、美(měi)光(guāng)、西(xī)部数据等主要存储晶圆(yuán)原厂签署了长期(qī)合(hé)约,确保存储晶圆(yuán)供应的稳定(dìng)性(xìng),巩固公(gōng)司在下游市场(chǎng)的供应优势,公(gōng)司也(yě)与(yǔ)国内国产存储晶圆原厂武汉长(zhǎng)江存储、合肥长(zhǎng)鑫保持良好的合作(zuò)。

  有券商此前就分析,如果(guǒ)美光在中国区销售受到(dào)限制,或将导致下游客户转而采购国(guó)外三(sān)星、 SK海力士,国内长(zhǎng)江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产(chǎn)品

  分析(xī)称,长存、长鑫的上游设备(bèi)厂或从中受益。存储器(qì)的生(shēng)产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的(de)工(gōng)艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结(jié)构(gòu)转变使刻蚀和薄膜(mó)成为最(zuì)关键、最(zuì)大(dà)量的加工(gōng)设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积(jī)工(gōng)艺步骤,同时刻蚀目前前(qián)沿要刻到 60:1的(de)深(shēn)孔,未来可能会更深的孔或者沟槽,催生更多设(shè)备需(xū)求。据东京电子披露,薄膜(mó)沉积设备及刻(kè)蚀占(zhàn)3D NAND产线资本开支合计为75%。自长江存储被加(jiā)入(rù)美国限制名单,设备国产(chǎn)化(huà)进(jìn)程加速,看好拓荆科(kē)技(jì)(薄膜(mó)沉积)等相关公司份(fèn)额提升,以及存储业(yè)务(wù)占比较高(gāo)的(de)华海清科(CMP)、盛美上海(清洗)等收入增长。

 

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