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cac2制取c2h2,cac2形成过程电子式 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日(rì)消息(xī),国(guó)家知(zhī)识产权局局长申长雨在(zài)新(xīn)闻发布会(huì)上表示,将统筹推进各类知识产权法律(lǜ)法规和制度规则的制修订工作。其中(zhōng),修改完善集成(chéng)电路布(bù)图设(shè)计保(bǎo)护条例,适(shì)应大规模集(jí)成电路发展需要(yào),助力芯片产(chǎn)业做大做强,服务数字经(jīng)济(jì)更好发(fā)展。

  加强大数据cac2制取c2h2,cac2形成过程电子式(jù)、人工(gōng)智(zhì)能、基因(yīn)技术等新领域新业态知识(shí)产权规则研究,助力相关领域创新发展。同时,积极参(cān)与知识产权(quán)国际(jì)规(guī)则制定,更好对接高标准国际经贸规则,助力高水平对外开放。

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