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　　美光公司在华销售的产品未通(tōng)过网(wǎng)络安全审查涂指甲油之前要涂护甲油吗，涂指甲油之前要涂护甲油吗ong>

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络安全审查办公(gōng)室依法对美光公司(sī)在华销售(shòu)产品进行了网络安(ān)全审(shěn)查。

　　审查发现，美(měi)光公司产品存在较(jiào)严重网络安全(quán)问题隐患，对我国关键信息基础设施供(gōng)应(yīng)链造(zào)成重大安全风险，影响我国国家安全。为此(cǐ)，网络安全审查办公室依(yī)法作出不予通过网络安全审查的结(jié)论。按照(zhào)《网(wǎng)络安(ān)全法(fǎ)》等法律法(fǎ)规，我国内关键信(xìn)息基础设施的运(yùn)营(yíng)者应停止采(cǎi)购美光公司产品(pǐn)。

　　此次对美光公司产品进行网络安全审查，目的是防(fáng)范产品网络安(ān)全问(wèn)题危害国(guó)家关键信(xìn)息基础设(shè)施(shī)安全，是维护国(guó)家安(ān)全的(de)必要措施。中国坚定推进(jìn)高水平对外开放(fàng)，只(zhǐ)要遵(zūn)守中国(guó)法律(lǜ)法规要求，欢迎各国企业、各(gè)类平台产(chǎn)品服务进入中国市场。

　　3月31日，中国网信网发(fā)文(wén)称，为保障关键信息基础设施供应链安全，防(fáng)范产品问题隐患(huàn)造成网络安全风险，维护(hù)国家安(ān)全，依据(jù)《中华人民共和国国家安全法》《中华(huá)人民共(gòng)和国网(wǎng)络安全法》，网络(luò)安全审查办公室按照(zhào)《网络安全审查办法》，对美光公(gōng)司(sī)（Micron）在华销售的产品(pǐn)实施网络(luò)安全审查。

　　美光是美(měi)国的存储芯片行业(yè)龙头，也是全球存(cún)储(chǔ)芯片巨(jù)头(tóu)之一，2022年收(shōu)入(rù)来自(zì)中国市场收(shōu)入从此前高峰57％降至2022年(nián)约11％。根据市场(chǎng)咨询机(jī)构(gòu) Omdia（IHS Markit）统计，2021 年三星电子(zi)、 铠侠(xiá)、西(xī)部数(shù)据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在(zài)全球 NAND Flash （闪存(cún)）市场份额约为 96.76％，三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM （内存）市场份(fèn)额约为(wèi) 94.35％。

　　A股上(shàng)市公司中，江(jiāng)波龙、佰维存(cún)储(chǔ)等公(gōng)司(sī)披露(lù)过美光等国际存储厂商为(wèi)公司供(gōng)应(yīng)商。

　　美(měi)光在江波龙采购占(zhàn)比已经显著下(xià)降，至少已经不是主要(yào)大供应商(shāng)。

　　公告显示， 2021年美光位(wèi)列江波(bō)龙第一大存储(chǔ)晶圆(yuán)供应(yīng)商(shāng)，采(cǎi)购约31亿(yì)元(yuán)，占比(bǐ)33.52％；2022年，江波龙第一大(dà)、第二大和第三大供应(yīng)商采购(gòu)金(jīn)额占(zhàn)比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前(qián)江波龙已经在存储产业(yè)链上(shàng)下游建立(lì)国内外广(guǎng)泛合作(zuò)。2022年年报显示，江(jiāng)波龙与三星、美光、西部数据等主要存储晶圆原(yuán)厂签署了(le)长期合约(yuē)，确(què)保存储晶涂指甲油之前要涂护甲油吗，涂指甲油之前要涂护甲油吗圆供应的稳定性，巩固公司(sī)在下游市场(chǎng)的供应优势，公司也与国内(nèi)国产存储晶圆原(yuán)厂(chǎng)武汉长江存(cún)储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的合(hé)作(zuò)。

　　有券商此(cǐ)前就分(fēn)析，如果美光在(zài)中国区销售受到限制，或将导致下游客户转(zhuǎn)而(ér)采购国外(wài)三星、 SK海力士，国内长(zhǎng)江(jiāng)存(cún)储、长鑫存储等竞(jìng)对产品(pǐn)

　　分析称，长(zhǎng)存、长(zhǎng)鑫(xīn)的上游设备(bèi)厂或(huò)从中受益。存储(chǔ)器的生(shēng)产已经演(yǎn)进到1Xnm、1Ynm甚至(zhì)1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入(rù)3D NAND时代，2 维到3维的(de)结构转变使刻(kè)蚀和涂指甲油之前要涂护甲油吗，涂指甲油之前要涂护甲油吗薄膜(mó)成为最关键、最大量的加工设备(bèi)。3D NAND每层(céng)均(jūn)需要经过薄(báo)膜沉(chén)积工艺步骤，同时刻蚀目前前沿要刻到(dào) 60：1的深孔，未来可能会(huì)更深的孔或(huò)者沟槽，催(cuī)生更多设备需(xū)求。据东(dōng)京(jīng)电子披露，薄膜沉积设备及刻蚀占(zhàn)3D NAND产线资本开支合计为75％。自长江存(cún)储被(bèi)加入美国限(xiàn)制名单，设备国产化进程加(jiā)速，看好拓荆科技（薄膜沉积）等相关公司份额提(tí)升(shēng)，以及存(cún)储(chǔ)业务占(zhàn)比较高的华海清科（CMP）、盛美上海（清洗）等收入增长。