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欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金融界4月24日消息,国家(jiā)知识(shí)产权局局长申长雨(yǔ)在(zài)新闻(wén)发布(bù)会上表示,将统筹推进各(gè)类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其(qí)中,修改完(wán)善集成电(diàn)路布图设计(jì)保(bǎo)护条例(lì),适应(yīng)大(dà)规模(mó)集成电路发展需要,助(欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好,欧莱雅染发剂和施华蔻染发剂哪个好zhù)力(lì)芯片(piàn)产业(yè)做(zuò)大做(zuò)强(qiáng),服务(wù)数(shù)字(zì)经济更好发展(zhǎn)。

  加强大(dà)数据、人工智能、基因技术等新(xīn)领域新业(yè)态知识(shí)产权规则研究(jiū),助力相关领(lǐng)域创新发展。同时,积极参与知识产权国际(jì)规则(zé)制定,更好对接高(gāo)标准(zhǔn)国际(jì)经贸(mào)规则,助力高(gāo)水平对(duì)外开(kāi)放。

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