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亲爱的让你㖭我下黑

亲爱的让你㖭我下黑 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月(yuè)24日消息,国(guó)家知识产权局局长申长雨(yǔ)在新(xīn)闻发布会(huì)上表示(shì),将统(tǒng)筹推进(jìn)各类知识产权法律法(fǎ)规和制度规则(zé)的制修订工(gōng)作。其(qí)中,修改完善集成电路(lù)布图设计保(bǎo)护条例(lì),适应大规(guī)模集成(chéng)电路发展需要,助力芯片(piàn)产业做大做强,服务数字经(jīng)济更好发展。

  加强(qiáng)大数据、人工(gōng)智能、基因(yīn)技术等新(xīn)领(lǐng)域新业态知(zhī)识产权规则研(yán)究,助力相(xiāng)关领域创(chuàng)新发展。同时,积极(jí亲爱的让你㖭我下黑)参与知识产(chǎn)权国际规则制定,更好对接(jiē)高标准国际经贸规则,助力高水平对外(wài)开放(fàng)。

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