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反映问题还是反应问题,反应问题和反映问题有什么区别和联系

反映问题还是反应问题,反应问题和反映问题有什么区别和联系 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

  金(jīn)融界4月24日消息,国家(jiā)知识产权局局长申(shēn)长(zhǎng)雨在新闻(wén)发(fā)布(bù)会(huì)上(shàng)表示,将统筹推进各类知(zhī)识产权法律法规和制度规则的(de)制修订工作。其中,修(xiū)改完善(shàn)集成(chén反映问题还是反应问题,反应问题和反映问题有什么区别和联系g)电路(lù)布图设计保(bǎo)护条例,适应大规模集成电路发展需要,助(zhù)力芯片产(chǎn)业做大做强,服务(wù)数(shù)字(zì)经(jīng)济更好发展(zhǎn)。

  加(jiā)强大数据、人工(gōng)智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究,助力相关领(lǐng)域创(chuàng)新发(fā)展(zhǎn)。同时,积极参与知识产权国际规则(zé)制定(dìng),更好对接高标准国际(jì)经(jīng)贸(mào)规则,助力高水平对外开(kāi)放。

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