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　　美(měi)光(guāng)公精彩演绎是什么意思解释，精彩演绎是啥意思司在华销售的产品未通过(guò)网络安全(quán)审查

　　据网信办消(xiāo)息，日前，网络安全审(shěn)查办公室依法对美光公司在(zài)华销售产品进行了网络安全审查。

　　审查发现，美光公司(sī)产品存在较严(yán)重网络安(ān)全(quán)问题隐患，对我国关键信息基(jī)础设施供(gōng)应链造(zào)成重大(dà)安全(quán)风险，影响我国国家安全。为(wèi)此，网络安全(quán)审查办公室(shì)依法作出不予(yǔ)通过网络(luò)安全审查的结(jié)论。按照(zhào)《网络安全法(fǎ)》等法律法规，我国内关键信息基础设施的运(yùn)营者应停止采购(gòu)美(měi)光(guāng)公(gōng)司产品。

　　此(cǐ)次对(duì)美光公司产品进行网络(luò)安全审(shěn)查，目的是防范产(chǎn)品网络安全问(wèn)题危害国家关(guān)键信息基(jī)础设施(shī)安全，是维护国(guó)家安全的必要措(cuò)施。中(zhōng)国坚定推(tuī)进高水平对外开放，只要(yào)遵守中国(guó)法(fǎ)律法规要求，欢迎各国企业、各类平台产品(pǐn)服务进入中国市场。

　　3月31日，中国网信网发文称，为保障关(guān)键信息基础设施(shī)供应链安全，防范产品问题隐患造(zào)成网(wǎng)络安全风险，维护(hù)国家安全(quán)，依据《中华人民共和国(guó)国家安全法》《中华人(rén)民共(gòng)和(hé)国网络安全法》，网(wǎng)络(luò)安全(quán)审(shěn)查办(bàn)公室按(àn)照《网络安全审查办法》，对(duì)美光(guāng)公司(sī)精彩演绎是什么意思解释，精彩演绎是啥意思（Micron）在华销(xiāo)售的(de)产品(pǐn)实施网络安(ān)全审查。

　　美光是美国(guó)的存储芯片(piàn)行业龙头(tóu)，也(yě)是全(quán)球存储芯片巨(jù)头之(zhī)一，2022年收(shōu)入来自(zì)中国市场收入(rù)从此前高(gāo)峰57％降至2022年约11％。根据市(shì)场咨询机构(gòu) Omdia（IHS Markit）统(tǒng)计(jì)，2021 年三星电子、 铠侠、西部数(shù)据(jù)、SK 海(hǎi)力士、美光、Solidigm 在全球 NAND Flash （闪存）市场份额约为(wèi) 96.76％，三星电子(zi)、 SK 海力(lì)士、美(měi)光(guāng)在(zài)全球 DRAM （内存）市场份额约为 94.35％。

　　A股(gǔ)上市公司中，江波龙、佰维存储等公司披露过美(měi)光等(děng)国(guó)际存储厂商为公司供应商。

　　美光在(zài)江波龙采购(gòu)占比已经(jīng)显著(zhù)下降，至少已经不是主要大供应(yīng)商(shāng)。

　　公告(gào)显示， 2021年美(měi)光位列江波(bō)龙第一大(dà)存储晶(jīng)圆供应(yīng)商，采购约31亿元，占比33.52％；2022年，江波龙第一大、第二大和第三大供应商采购金额占比分别是26.28％、22.85％和5.76％。

　　目前江波龙已经在存储产业(yè)链上下游建(jiàn)立国(guó)内外广泛(fàn)合(hé)作(zuò)。2022年年(nián)报显示，江波龙与(yǔ)三星(xīng)、美(měi)光、西部数据等(děng)主(zhǔ)要存(cún)储晶圆原厂签署了长期合约，确保存储晶圆供应的稳(wěn)定性，巩(gǒng)固(gù)公司在下(xià)游市场的供应优势，公司也与国内国产(chǎn)存储晶(jīng)圆(yuán)原厂武汉长(zhǎng)江(jiāng)存储(chǔ)、合肥长鑫(xīn)保持良好(hǎo)的合作。

　　有券(quàn)商此前就分析，如果美光在中国(guó)区销售受(shòu)到限制，或将(jiāng)导(dǎo)致(zhì)下(xià)游客(kè)户转而(ér)采(cǎi)购(gòu)国外三星(xīng)、 SK海(hǎi)力士，国内(nèi)长江存储、长鑫存(cún)储等竞(jìng)对(duì)产品

　　分析称，长存、长鑫的上游设(shè)备(bèi)厂或从(cóng)中(zhōng)受益。存(cún)储(chǔ)器的(de)生(shēng)产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现在已经进入3D NAND时代，2 维到3维的结构转变使刻蚀和(hé)薄膜成为最关键(jiàn)、最大(dà)量的加工设备。3D NAND每层均需要经过薄膜沉积工艺(yì)步骤，同时刻蚀目前前(qián)沿(yán)要(yào)刻到 60：1的(de)深孔，未来可(kě)能会更深的孔或者沟(gōu)槽(cáo)，催(cuī)生更多设备需求(qiú)。据东京电子披露(lù)，薄膜沉积设备及刻蚀占3D NAND产(chǎn)线资本开支合(hé)计(jì)为75％。自(zì)长江存储被(bèi)加(jiā)入美(měi)国限制名单，设备国产(chǎn)化进程加速(sù)，看好拓(tuò)荆科技（薄膜沉积(jī)）等相(xiāng)关(guān)公司(sī)份(fèn)额提(tí)升，以及(jí)存储业务占比较高的华海清科(kē)（CMP）、盛美(měi)上(shàng)海（清洗）等收入(rù)增长(zhǎng)。

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