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狼籍和狼藉哪个正确,狼籍与狼藉到底怎么区别

狼籍和狼藉哪个正确,狼籍与狼藉到底怎么区别 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看一则(zé)突发消息。

  美光公司在华(huá)销售的产品未(wèi)通(tōng)过网络安全审查

  据网信(xìn)办(bàn)消息,日(rì)前,网络安全(quán)审查办(bàn)公室依法对美光公司在(zài)华销售产品进行了(le)网(wǎng)络安全审查(chá)。

  审查发现,美光公司产品存在较严重网络(luò)安全问(wèn)题隐患,对我国(guó)关键信息基础设(shè)施供应链造(zào)成重大安全风险,影(yǐng)响我国国家(jiā)安全。为此,网(wǎng)络安全审查办(bàn)公室依法(fǎ)作出不予通过网络安(ān)全审查(chá)的结论。按照《网(wǎng)络安全法》等法律法规,我国内(nèi)关(guān)键信息基(jī)础设施(shī)的运营者(zhě)应停止采购美光公司产品。

  此次对(duì)美光(guāng)公司产品(pǐn)进(jìn)行(xíng)网络安(ān)全(quán)审查(chá),目的是防(fáng)范产品网络安(ān)全问题危害国家关(guān)键信息(xī)基(jī)础设施安(ān)全(quán),是维(wéi)护(hù)国家安(ān)全的(de)必要措施。中(zhōng)国坚定(dìng)推(tuī)进(jìn)高水平对外开放,只要遵守中国法律法规(guī)要(yào)求,欢迎各国企业、各(gè)类平台产品服务进入中国市场。

  半导体突(tū)发!中国(guó)出手:停止采购!

 狼籍和狼藉哪个正确,狼籍与狼藉到底怎么区别 3月31日,中国(guó)网信网发文称(chēng),为保障(zhàng)关(guān)键信息(xī)基础设施供应链安全,防范产品问题隐(yǐn)患造成网(wǎng)络安(ān)全风(fēng)险(xiǎn),维(wéi)护国(guó)家安全,依据(jù)《中华人民共和国国家安全法》《中华人民共和国网络安全法》,网(wǎng)络(luò)安(ān)全审查办公室按照(zhào)《网络安全审(shěn)查办法(fǎ)》,对(duì)美光(guāng)公司(Micron)在华销售的产品实(shí)施网(wǎng)络安全审查(chá)。

  半导体突发!中国出手:停止采(cǎi)购!

  美光(guāng)是美国(guó)的(de)存储芯片行业龙(lóng)头,也是(shì)全球存储芯片巨头之一,2022年收入来(lái)自(zì)中国市(shì)场收入从此前高峰57%降至2022年约11%。根据(jù)市(shì)场咨询机构 Omdia(IHS Markit)统(tǒng)计,2021 年三星电子、 铠侠(xiá)、西(xī)部数(shù)据、SK 海力(lì)士、美光、Solidigm 在全(quán)球 NAND Flash (闪存)市场份额约为 96.76%,三(sān)星电子、 SK 海(hǎi)力士、美光在(zài)全球 DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股(gǔ)上市公司中,江波龙、佰维(wéi)存(cún)储等公司披露(lù)过美光等国际存储厂商为(wèi)公(gōng)司供应商。

  美光在江波龙采购占(zhàn)比(bǐ)已经(jīng)显著下降,至少已经不是(shì)主要大供应商(shāng)。

  公告显示, 2021年美(měi)光位列江波龙(lóng)第一(yī)大存储晶圆供(gōng)应商,采(cǎi)购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波(bō)龙第一大、第二大和(hé)第三大供应商采(cǎi)购金额占比分别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波(bō)龙(lóng)已经(jīng)在存储产业链(liàn)上下游建(jiàn)立(lì)国内(nèi)外广(guǎng)泛合(hé)作。2022年年报显示,江波龙与三星、美光、西部数据等主要(yào)存储晶圆原厂签署了(le)长期合约,确(què)保存储晶圆供应的稳定(dìng)性(xìng),巩固公司(sī)在下(xià)游(yóu)市场的供应优势,公司也与国内国产存储晶圆原厂(chǎng)武汉(hàn)长江存储、合肥长鑫保持良好(hǎo)的合作(zuò)。

  有(yǒu)券商此前就分(fēn)析,如果美光在中国(guó)区销售受到限制,或将导致下游(yóu)客户转而采购国外三(sān)星(xīng)、 SK海(hǎi)力士(shì),国内长江存储、长鑫存储(chǔ)等竞对产品

  分(fēn)析称,长存、长鑫的上游设备厂(chǎng)或从中受益。存储器的(de)生(shēng)产已经演进到1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺。另外NAND Flash现(xiàn)在已经进入3D NAND时代,2 维到3维的结构转变使刻蚀(shí)和薄膜成为(wèi)最关键、最大量的加工设备。3D NAND每层均需(xū)要(yào)经(jīng)过薄膜沉(chén)积工艺步骤,同(tóng)时刻蚀目(mù)前前沿(yán)要刻(kè)到(dào) 60:1的深孔(kǒng),未来可能会更深的孔或者沟(gōu)槽,催生更多(duō)设备需(xū)求。据东京(jīng)电子披(pī)露,薄膜(mó)沉积设备及刻蚀(shí)占(zhàn)3D NAND产线(xiàn)资本开支合计为(wèi)75%。自长江存储被加入美国限制名单,设备(bèi)国产(chǎn)化(huà)进程加速,看好拓荆科技(薄膜(mó)沉积(jī))等相(xiāng)关公司份额(é)提升,以(yǐ)及存储业务占比较高的华海(hǎi)清(qīng)科(CMP)、盛美(měi)上(shàng)海(清洗)等收入增长。

 

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